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国内光刻机技术取得重大突破

作者: 来源: 日期:2017/5/10 10:58:30 人气:2604


    激光刻蚀技术应用于各行各业,光刻机在各行业表现也日渐重要,对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。简单地说,光刻机就是把工程师的设计‘印入’基底材料,其核心技术长期被国外激光公司等把持。国内从事密码芯片研发的设计公司,一般研发的芯片投入生产时,130纳米的芯片开模就是120万元人民币,而28纳米的芯片开模费用高达上千万元人民币。而这一局面由于国内光刻机的技术突破将被改变.

据介绍,为了将设计图形制作到硅片上,并在2至3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管,光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台,在高速运动下需达到2纳米(相当于头发丝直径的三万分之一)的运动精度。因此光刻机双工件台又被称为“超精密技术皇冠上的明珠”。
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